产品概述：

EDI超纯水设备采用预处理、反渗透技术、超纯化处理以及后级处理等方法，将水中的导电介质几乎完全去除，又将水中不离解的胶体物资、气体及有机物均去除至很低程度的水处理设备，一般用于电子光学行业生产用水，如半导体、集成电路芯片及封装用水、电子试剂用水,电子管涂敷配液用水、液晶显示器屏面清洗用水、硅片清洗用水、光学镜片清洗用水、各种高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模集成电路等生产用水需求．

EDI超纯水设备特点：
1、系统工艺先进、水质稳定、自动化程度高、操作简便、占地少、运行费用低、绿色环保、维护方便。

2、处理后可生产出水电阻率可达到18.2兆的超纯水。

3、整体化程度高，易于扩展，增加膜数即可增加处理量。

4、自动化程度高，遇到故障立即自停，具有自动保护功能。

5、先进的膜保护系统，在设备关机，谈化水可自动将膜面污染物冲洗干净，延长膜寿命。

6、设备设计有膜清洗系统，用于防止膜件受阻。

7、系统无易损部件，无需大量维修，运行长期有效。

系统工艺：

应用范围：

1、电子、医药、电力、电镀、实验室、日化、造漆、锂电池、化验、制药、玻璃、生物等领域。

2、工业品制造用水：汽车、家电涂装、涂料、油漆、精细化工等

3、单晶硅、半导体切割制造、半导体封装、集成电路、液晶显示器、导电玻璃、显像管、线路板、光纤等

4、化工工艺用水、化学药剂、化妆品等

5、电力行业锅炉补给水：热力、火力发电锅炉、中、低压锅炉动力系统、精尖科学用水。