抛光混床纯水设备

抛光混床纯水设备

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产品概述:

抛光混床又称一次性混床一般情况用在超纯水处理系统末端,用来更进一步提高产水水质,保证系统出水水质能够维持用水标准,一般出水水质都能达到18兆欧以上。抛光混床的树脂是不能再生重复使用的,所谓抛光的意思就是树脂的表面处理情况,抛光树脂出厂的离子型态都是H、OH型,装填后及可使用无需再生。一般用于电子、医药等行业。

抛光混床设备工艺特点:

由于通过混合离子交换后进入水中的氢离子与氢氧离子,立即生成电离度很低的水分子(H2O),很少可能形成阳离子或阴离子交换时的反离子,可以使交换反应进行得十分彻底,活水水质优良。一般用强酸强碱树脂填装的混床,出水含盐率在1ppm/l以下,电导率小于0.1-0.2μS/cm,二氧化硅泄露量在20ppb/l左右,出水PH值显中性。产水水质高且水质稳定, 短时间运行条件变化(如进水水质或组分,运行流量等)对混床水质影响不大。间断运行对产水水质影响小,恢复到停运前的活水水质所需时间短。

抛光混床设备技术参数:

1、设计压力:0.6Mpa 。

2、运行流速:一级:30m/h,二级:36m/h。

3、设备出力:一级:6m3/h,二级:4.5m3/h

4、产水水质:一级:电导度≤0.053μS/cm 电阻≥16MΩ。

      二级:电导度≤0.053μS/cm 电阻≥18MΩ。